氨逃逸背后的“隱形之痛"與治理路徑

一、產品介紹

NH3激光氣體分析系統(tǒng)（包括測量池）采用全程加熱，保證樣品氣體溫度，防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭，在取樣出就完成樣品的凈化，減小了后級預處理的負荷，大大降低了器件的故障率。系統(tǒng)設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序，正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用復合電伴熱管纜，并控制在2m以內，整個預處理全部集成在高溫加熱盒內，系統(tǒng)緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。

氨逃逸檢測系統(tǒng)具有多年在國內外從事可調諧半導體激光光譜分析技術研發(fā)、掌握TDLAS核心技術并積累豐富經驗的技術專家、研發(fā)團隊精心打造而成的氣體監(jiān)測設備。測量快速、準確、穩(wěn)定、不受背景氣體干擾。

二、系統(tǒng)優(yōu)勢

NH3分析儀是采用可調諧半導體激光光譜技術研制而成。以高穩(wěn)定性、低噪聲的可調諧激光器為光源，可有效克服背景氣體、粉塵等因素干擾，實現(xiàn)準確、快速測量。

• 適應高溫、強腐蝕性氣體的在線檢測,采用非接觸光學檢測技術，對各類高溫氣體進行直接分析，針對各類腐蝕性氣體的檢測應用，選用特制的測量氣體室以及高溫伴熱等方式，有效防止氣體對儀器的腐蝕，滿足各類應用要求。

•系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要，NH3分析儀采用波長調制光譜技術，并且進行動態(tài)的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。

NH3氣體分析系統(tǒng)現(xiàn)場安裝靈活，光學非接觸測量不易被腐蝕，光強不受煙氣粉塵影響，抗機械振動能力強，測量不受溫度和壓力等過程參數(shù)影響。具有測量精度高（達0.1ppm),抗干擾能力強、維護簡單,運行成本低等諸多優(yōu)勢，可滿足脫硝工藝中氨逃逸檢測需求。

三、產品特點

1、整個氣體流路200℃高溫伴熱，并定期自動反吹，避免高粉塵和銨鹽結晶塞過濾器和管道、以及污染分析儀氣體室，免維護周期長，為工藝流程提供必需的數(shù)據(jù)依據(jù) 。

2、采用高溫抽取采樣測量，與原位對穿式相比，具有不受煙道內粉塵、溫度、壓力波動的影響，可實現(xiàn)自動校準等優(yōu)勢。

3、在位安裝(伴熱管線1—2米長)，氣體室多次折返光路，確保探頭到氣體室出氣口的容積小于0.5L，有效避免強吸附性影響響應時間

4、結果簡單、緊湊、無運動部件，確保良好的運行穩(wěn)定性。

四、系統(tǒng)主要技術指標

●檢測工藝點：脫銷氨逃逸檢測     ●分析組分：NH

₃

●系統(tǒng)響應時間：1秒        ●測量范圍：0-50ppm（可定制）

●測量精度:±1%F.S         ●穩(wěn)定性：無漂移

●氣體壓力:25—2000mbar   　●校正:出廠設定

●系統(tǒng)維護周期：1年       　●系統(tǒng)可靠性： MTBF≥1年●信號輸出：RS-232或RS-482/4～20mA隔離電流信號。

●輸出信號：4～20mA，控制報警信號NO/NC

●工作電源：220VAC50HZ    ●工作氣源：儀表級壓縮空氣

●環(huán)境溫度:-10℃—50℃    ●伴熱溫度:190℃

●安裝方式:在位式

氨逃逸背后的“隱形之痛"與治理路徑

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